10月29日〜10月30日に名古屋市工業研究所において開催された「第32回高分子加工技術討論会」において、本学大学院工学研究科材料科学専攻博士前期課程の金澤暉さんの発表が「学生優秀発表賞」を受賞しました。
この賞は、研究会で行われた学生による優秀な発表に贈られるもので、今回は16件の学生口頭発表の中から2件が選出され、その中の1件に金澤さんの発表が選ばれました。金澤さんには賞状と盾が贈呈されました。

発表内容について
■題 目：側鎖型液晶性高分子の液晶秩序における側鎖グラフト密度の影響
■発表者：金澤暉、竹下宏樹、徳満勝久、神澤岳史
■概 要：高分子液晶の一種である側鎖型液晶性高分子では、側鎖メソゲン基の種類やスペーサー長などの分子構造が液晶化挙動に影響を及ぼすことが知られています。今回発表した研究では、従来から知られているこれらの分子構造に加えて、側鎖メソゲン基の「混み合い度合」に着目しました。その結果、分子鎖中に液晶化しない成分を少量導入することが、液晶化しやすさと液晶の運動性（電場に対する応答性）をむしろ向上させることが分かりました。このことは、高分子液晶材料の分子設計に新しい指針を与えるものです。

「学生優秀発表賞」を受賞された金澤君